හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය (HF)
නිෂ්පාදන විස්තර
පිරිවිතර සපයා ඇත
විනිවිද පෙනෙන දියර අන්තර්ගතය ≥ 35%-55%
(යෙදුම් යොමු විෂය පථය 'නිෂ්පාදන භාවිතය')
හයිඩ්‍රජන් ෆ්ලෝරයිඩ් වායුව ජලයේ ද්‍රාව්‍ය වන අතර එහි ජලීය ද්‍රාවණය හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය ලෙස හැඳින්වේ.නිෂ්පාදිතය සාමාන්‍යයෙන් 35%-50% හයිඩ්‍රජන් ෆ්ලෝරයිඩ් වායු ජලීය ද්‍රාවණයක් වන අතර, අවර්ණ පැහැදිලි කළ දුම් දියර සඳහා ඉහළම සාන්ද්රණය 75% දක්වා ළඟා විය හැකිය.වාතයේ තියුණු, වාෂ්පශීලී, සුදු දුමාරය සුවඳ.එය මධ්‍යම ප්‍රබල අකාබනික අම්ලයක් වන අතර එය අධික ලෙස විඛාදනයට ලක් වන අතර වීදුරු සහ සිලිකේට විඛාදනයට ලක් කර වායුමය සිලිකන් ටෙට්‍රාෆ්ලෝරයිඩ් සෑදිය හැක.එයට ලෝහ, ලෝහ ඔක්සයිඩ් සහ හයිඩ්‍රොක්සයිඩ් සමඟ අන්තර්ක්‍රියා කර විවිධ ලවණ සෑදිය හැකි නමුත් එහි බලපෑම හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය තරම් ප්‍රබල නොවේ.රන්, ප්ලැටිනම්, ඊයම්, පැරෆින් සහ සමහර ප්ලාස්ටික් භාවිතා කළ නොහැක, එබැවින් බහාලුම් සෑදිය හැකිය.හයිඩ්‍රජන් ෆ්ලෝරයිඩ් වායුව (HF) 2 (HF) 3· homochain අණු සෑදීමට පහසුවෙන් බහුඅවයවීකරණය වන අතර ද්‍රව තත්වයේ දී බහුඅවයවීකරණයේ මට්ටම වැඩි වේ.ඊයම්, ඉටි හෝ ප්ලාස්ටික් වලින් සාදන ලද බහාලුම්වල ගබඩා කරන්න.එය ඉතා විෂ සහිත වන අතර සම ස්පර්ශ වන විට වණ ඇති විය හැක.
EVERBRIGHT® විසින් අභිරුචිකරණය කරන ලද: අන්තර්ගතය/සුදු බව/අංශු ප්‍රමාණය/PH අගය/වර්ණය/ඇසුරුම් විලාසය/ ඇසුරුම් පිරිවිතර සහ ඔබේ භාවිත කොන්දේසි සඳහා වඩාත් සුදුසු වෙනත් විශේෂිත නිෂ්පාදන සපයනු ඇත, සහ නොමිලේ සාම්පල ලබා දෙනු ඇත.
නිෂ්පාදන පරාමිතිය
7664-39-3
231-634-8
20.01
අකාබනික අම්ලය
1.26g/cm³
ජලයේ දිය වේ
120(35.3%)
-83.1 (පිරිසිදු)
නිෂ්පාදන භාවිතය
ක්වාර්ට්ස් වැලි අච්චාරු දැමීම
එය හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය සමඟ ප්රතිකාර කිරීමේදී වඩාත් හොඳින් ක්‍රියා කරයි, නමුත් වැඩි සාන්ද්‍රණයක් අවශ්‍ය වේ.සෝඩියම් ඩයිසල්ෆයිට් සමඟ බෙදාගත් විට, හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයේ අඩු සාන්ද්රණය භාවිතා කළ හැක.හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය සහ හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල ද්‍රාවණයේ යම් සාන්ද්‍රණයක් සමානුපාතිකව එකවර ක්වාර්ට්ස් මෝටාර් වලට මිශ්‍ර කර ඇත;එය ප්‍රථමයෙන් හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ල ද්‍රාවණයෙන් ප්රතිකාර කර, සෝදා පසුව හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයෙන් ප්රතිකාර කර, පැය 2-3ක් අධික උෂ්ණත්වයකදී ප්රතිකාර කර, පසුව පෙරා පිරිසිදු කර, ක්වාර්ට්ස් වැලි මතුපිට ඇති අපද්‍රව්‍ය සහ ඔක්සයිඩ ඵලදායී ලෙස ඉවත් කර වැඩිදියුණු කළ හැක. ක්වාර්ට්ස් වැලි වල සංශුද්ධතාවය සහ ගුණාත්මකභාවය.
ලෝහ මතුපිට ප්රතිකාර
මතුපිට ඔක්සිජන් අඩංගු අපද්‍රව්‍ය ඉවත් කරන්න, හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය දුර්වල අම්ලයකි, එය ෆෝමික් අම්ලයට සමාන ශක්තියකි.වාණිජමය වශයෙන් ලබා ගත හැකි හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයේ සාමාන්‍ය සාන්ද්රණය 30% සිට 50% දක්වා වේ.හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල මලකඩ ඉවත් කිරීමේ ප්‍රධාන ලක්ෂණ පහත පරිදි වේ:
(1) සිලිකන් අඩංගු සංයෝග විසුරුවා හැරිය හැක, ඇලුමිනියම්, ක්‍රෝමියම් සහ අනෙකුත් ලෝහ ඔක්සයිඩවල ද හොඳ ද්‍රාව්‍යතාවයක් ඇත, සාමාන්‍යයෙන් වාත්තු, මල නොබැඳෙන වානේ සහ අනෙකුත් වැඩ කොටස් කැටයම් කිරීමට භාවිතා කරයි.
(2) වානේ වැඩ කොටස් සඳහා, මලකඩ ඉවත් කිරීම සඳහා අඩු සාන්ද්‍රණයක හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය භාවිතා කළ හැක.70% සාන්ද්‍රණයක් සහිත හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල ද්‍රාවණය වානේ මත උදාසීන බලපෑමක් ඇති කරයි
(3) 10% ක පමණ සාන්ද්‍රණයක් සහිත හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය මැග්නීසියම් සහ එහි මිශ්‍ර ලෝහ මත දුර්වල විඛාදන බලපෑමක් ඇති කරයි, එබැවින් එය බොහෝ විට මැග්නීසියම් වැඩ කොටස් කැටයම් කිරීමේදී භාවිතා වේ.
(4) ඊයම් සාමාන්‍යයෙන් හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය මගින් විඛාදනයට ලක් නොවේ;නිකල් 60% ට වඩා වැඩි සාන්ද්‍රණයක් සහිත හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල ද්‍රාවණවල ප්‍රබල ප්‍රතිරෝධයක් ඇත.හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය ඉතා විෂ සහිත සහ වාෂ්පශීලී වන අතර, හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල ද්‍රව සහ හයිඩ්‍රජන් ෆ්ලෝරයිඩ් වායුව සමඟ මිනිස් සම්බන්ධතා වැලැක්වීම සඳහා භාවිතා කරයි, කැටයම් ටැංකිය වඩාත් හොඳින් මුද්‍රා තබා ඇති අතර හොඳ වාතාශ්‍රය උපාංගයක් ඇති අතර පිරිපහදු කළ ෆ්ලෝරීන් කළ අපජලය බැහැර කළ හැකිය.
ග්රැෆයිට් සැකසීම
හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය යනු ග්‍රැෆයිට්වල ඇති ඕනෑම අපිරිසිදු ද්‍රව්‍යයක් සමඟ ප්‍රතික්‍රියා කළ හැකි ප්‍රබල අම්ලයක් වන අතර, මිනිරන්ට හොඳ අම්ල ප්‍රතිරෝධයක් ඇත, විශේෂයෙන් හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයට ප්‍රතිරෝධය දැක්විය හැකි අතර, එමඟින් මිනිරන් හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයෙන් පිරිසිදු කළ හැකි බව තීරණය කරයි.හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ල ක්‍රමයේ ප්‍රධාන ක්‍රියාවලිය වන්නේ ග්රැෆයිට් හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය සමඟ මිශ්‍ර කර හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය ද්‍රාව්‍ය ද්‍රව්‍ය හෝ වාෂ්පශීලී ද්‍රව්‍ය නිපදවීම සඳහා යම් කාලයක් අපද්‍රව්‍ය සමඟ ප්‍රතික්‍රියා කිරීමයි.
දුර්ලභ පස් කැණීම සඳහා විශේෂයි
නිර්ජලීය දුර්ලභ පෘථිවි ෆ්ලෝරයිඩ් සකස් කිරීමේ ක්‍රමය වන්නේ ජලීය ද්‍රාවණයකින් හයිඩ්‍රේටඩ් දුර්ලභ පෘථිවි ෆ්ලෝරයිඩ් අවක්ෂේපණය කිරීම, පසුව දුර්ලභ පෘථිවි ඔක්සයිඩ් සෘජුවම ෆ්ලෝරිනීකරණ කාරකය සමඟ විජලනය කිරීම හෝ ෆ්ලෝරීන් කිරීම ය.දුර්ලභ පෘථිවි ෆ්ලෝරයිඩ් ද්‍රාව්‍යතාව ඉතා කුඩා වන අතර, එය හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය භාවිතයෙන් දුර්ලභ පෘථිවි හයිඩ්රොෆ්ලෝරික්, සල්ෆියුරික් හෝ නයිට්‍රික් අම්ල ද්‍රාවණවලින් අවක්ෂේප කළ හැක (අවපාතය හයිඩ්‍රේටඩ් ෆ්ලෝරයිඩ් ආකාරයෙන් අවක්ෂේප වේ).
TPT-LCD තිර තුනී කිරීම (ඉලෙක්ට්‍රොනික ශ්‍රේණිය)
ෆොටෝරෙසිස්ට් සහ දාර මැලියම්වල ආරක්ෂාව යටතේ, හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලයේ සාන්ද්රණය සකස් කර, නයිට්‍රික් අම්ලය, සාන්ද්‍ර සල්ෆියුරික් අම්ලය සහ හයිඩ්‍රොක්ලෝරික් අම්ලය යම් ප්‍රමාණයක් එකතු කරනු ලැබේ, සහ අතිධ්වනික සහායක කොන්දේසි එකතු කරනු ලැබේ, කැටයම් අනුපාතය පැහැදිලිවම වැඩි දියුණු වේ.ප්‍රත්‍යාවර්ත පිරිසිදු කිරීම මගින් මතුපිට රළුබව ඵලදායි ලෙස අඩු කර සුදු මතුපිට ඇමිණුම්වල වර්ෂාපතනය අඩු කළ හැක.රළු මතුපිට සහ සුදු මතුපිට ඇලවුම් වර්ෂාපතනය පිළිබඳ ගැටළුව විසඳනු ලැබේ.
තන්තු විඛාදනය
හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය පිරවූ විඛාදන ෆෝටෝනික් ස්ඵටික තන්තු (PCF).හයිඩ්රොෆ්ලෝරික් අම්ලය දිගු කරන ලද ෆොටෝනික් ස්ඵටික තන්තු වල සිදුරු තුලට පුරවා ඇත.එහි හරස්කඩ ව්‍යුහය වෙනස් කිරීමෙන් නිශ්චිත ව්‍යුහයක් සහිත ෆොටෝනික් ස්ඵටික තන්තු වර්ධනය වන අතර එහි දෘශ්‍ය සන්නායකතාව වෙනස් වේ.ප්‍රතිඵලවලින් පෙනී යන්නේ සිදුරු විඛාදන මට්ටම වැඩි වීමත් සමඟ කාන්දු වන අලාභය සහ විසිර යාමේ අලාභය අඩු වන අතර රේඛීය නොවන සංගුණකය පැහැදිලිවම වැඩි වන අතර මූලික අච්චුවේ ඵලදායි වර්තන දර්ශකය සහ ආවරණයේ සමාන වර්තන දර්ශකය ඊට අනුරූපව අඩු වන අතර කණ්ඩායම් ප්‍රවේග විසුරුම ද වෙනස් වේ.
